近日，在上海举办的第九届中国国际进口博览会上，国内新一代前道干式扫描投影光刻机模型首次亮相，受到广泛关注。此款光刻机的关键零部件国产化率已突破90%，有望在不久的将来实现完全自主生产。光刻机被誉为工业制造的关键设备，长期以来，外国技术对中国的半导体产业构成了极大挑战。
此次展示的光刻机主要型号为SSC800和SSB800，分别适配不同的制程需求。SSC800使用KrF光源，适用于110纳米及以上的制造工艺，能够为存储芯片和微处理器等产品服务；而SSB800则采用I-line光源，适合280纳米及以上的制程，主要应用于功率半导体和模拟集成电路等领域。
值得关注的是，此次光刻机的全链条技术，包括高精度物镜、照明系统等，均由国内自主研发，显示出中国在此领域的科技实力。此外，多台设备已经在多个产线中长期运行，累计流片超过千万，且有效运行率超过92%，这意味着这些设备已经能够在实际生产中投入使用，大幅减少了损耗。 千亿球友会
虽然此次展示的是干式光刻机而非浸没式或极紫外光刻机，但这一技术的成熟使得中国在自主供应能力上迈出了重要一步。同时，业内评论人士对此评价不一，虽然取得了显著进展，但仍须关注下一步在28纳米浸没式光刻技术上的突破。整体来看，这一成就展示了中国在关键技术领域逐步实现自主可控的前景。
